Студопедия

КАТЕГОРИИ:

АвтомобилиАстрономияБиологияГеографияДом и садДругие языкиДругоеИнформатикаИсторияКультураЛитератураЛогикаМатематикаМедицинаМеталлургияМеханикаОбразованиеОхрана трудаПедагогикаПолитикаПравоПсихологияРелигияРиторикаСоциологияСпортСтроительствоТехнологияТуризмФизикаФилософияФинансыХимияЧерчениеЭкологияЭкономикаЭлектроника



Адгезия механических частиц на поверхность полупроводниковых пластин

Читайте также:
  1. VI. Предлоги, союзы, частицы, междометия
  2. АДГЕЗИЯ
  3. Античастицы и их аннигиляция.
  4. Античастицы. Аннигиляция.
  5. Безударные частицы не и ни
  6. Взаимодействие заряженных частиц с атомами и ядрами
  7. Взаимодействие ионизирующих излучений и потоков частиц
  8. Взаимодействие частиц скелета.
  9. Волново́й фронт — это поверхность, до которой дошли колебания к данному моменту времени. Волновой фронт является частным случаем волновой поверхности.

 

На механическую частицу в воздушном пространстве действуют силы притяжения (Ван-дер-Ваальса, электростатическая) и оттал­кивания, при этом силы притяжения в обычных условиях преобла­дают. В воздушной среде ЧПП концентрация ионов на два порядка выше, чем в обычном помещении. Статический заряд полупровод­никовых пластин (электропотенциал) составляет около 1000 В, что существенно увеличивает количество притягиваемых к поверхно­сти подложек загрязнений. Воздействие заряда пластины сущест­венно увеличивается на механические загрязнения меньшего диа­метра (рис.2.2).

После отмывки подложек в чистой деионизованной воде марки "А" поверхностный заряд составляет около 5000 В. Для снижения влияния заряда пластин на чистоту поверхности проводят ряд ор­ганизационных мероприятий, среди которых следует выделить за­земление электрического заряда, скапливаемого на рабочей одежде операторов технологических участков, а также увеличение влажно­сти воздуха ЧПП.

 

 
 

 

 

Рис.2.2. Воздействие статического заряда на адгезию механических частиц различного диаметра к поверхности кремниевых пластин

 

 

В жидкости количество осаждаемых загрязнений на поверх­ность зависит от чистоты химических растворов, массы, скорости движения жидкости. Адгезия загрязнений в жидкости может рас­сматриваться по диффузионной модели (рис.2.3).

 
 

 

Рис.2.3. Диффузионная модель адгезии механической частицы к полупровод­никовой поверхности в жидкости

 

 

Практические измерения показали, что содержание примесей Na в растворе H2SO4 (ОСЧ), применяемом в отечественной техноло­гии, составляет величину 5·1010 ат./см2: присутствие загрязнений Al ~ 1·1013 ат./см2, Fe ~ 5·1012 ат./см2 в растворах NH4OH (ОСЧ) и H2O2 (ОСЧ) делает невозможным их применение для изготовления ИС с Bmin ~ 0,6 мкм. Основными направлениями решения вопросов чистоты поверхности подложек в процессе "жидкостной" химиче­ской обработки являются: ужесточение требований к системам фильтрации технологических растворов, разработка новых техни­ческих решений и методов проведения обработки.

 


Дата добавления: 2015-01-29; просмотров: 19; Нарушение авторских прав


<== предыдущая лекция | следующая лекция ==>
Классификация загрязнений | X-потенциал материалов в растворах с различным рН, мВ
lektsii.com - Лекции.Ком - 2014-2019 год. (0.03 сек.) Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав
Главная страница Случайная страница Контакты