![]() КАТЕГОРИИ:
АстрономияБиологияГеографияДругие языкиДругоеИнформатикаИсторияКультураЛитератураЛогикаМатематикаМедицинаМеханикаОбразованиеОхрана трудаПедагогикаПолитикаПравоПсихологияРиторикаСоциологияСпортСтроительствоТехнологияФизикаФилософияФинансыХимияЧерчениеЭкологияЭкономикаЭлектроника
|
Фотогальванический эффект. ⇐ ПредыдущаяСтр 5 из 5
Фотогальванический эффект возникает в полупроводниках с внутренним потенциальным барьером (с р-п переходом, с переходом металл — полупроводник, с гетеропереходом): внутреннее электрическое поле перехода разделяет возникшие под воздействием оптического излучения фотоносители. Пространственно разделенные фотоносители разных знаков — дырки и электроны — создают фото-ЭДС. Фотогальванический эффект первого типа возникает только при генерации светом подвижных носителей заряда одновременно обоих знаков (электронов и дырок) и обусловлен разделением этих носителей в пространстве. Разделение вызывается либо неоднородностью образца (роль неоднородности может играть поверхность), либо неоднородностью освещения (освещение части образца или поглощение света у поверхности). Появление эдс при неоднородном освещении может также обусловливаться "нагревом" электронов светом. Этот механизм подобен "обычному" термоэлектрическому эффекту и может быть существен как при межзонном поглощении, так и при внутризонном. К Фотогальваническим эффектам, связанным с пространственным разделением носителей, относятся: 1) Дембера эффект - возникает при неоднородном освещении образца из-за различия коэффициента диффузии электронов и дырок. Он может возникать и при однородном освещении вследствие различия скоростей поверхностной рекомбинации на противоположных гранях образца. 2) Вентильная эдс - образуется в результате разделения электронов и дырок электрич. полем приэлектродного Шоттки барьера на контакте металл - полупроводник, полем р-п-перехода или гетероперехода . Вклад в ток дают как носители, генерируемые непосредственно в области р - n-перехода, так и возбуждаемые в приэлектродных областях и достигающие области сильного поля путём диффузии. В результате разделения пар образуется направленный поток электронов в n-область и дырок в p-областъ. При разомкнутой цепи создаётся эдс в пропускном (прямом) направлении р-n-перехода, компенсирующая этот ток. Рисунок 4. Разделение возбуждаемых светом электронно-дырочных пар на р - n-переходе. Фотоэлементы на р-n - переходах или гетеропереходах используются как высокочувствительные малоинерционные приёмники излучения, а также для прямого преобразования световой энергии в электрическую. При регистрации излучения фотоэлемент непосредственно замыкается на внешнюю нагрузку либо последовательно с нагрузкой включается внеш. источник, создающий на р-n- переходе значительное смещение в запорном направлении. Это даёт возможность существенно повысить чувствительность прибора. При освещении изолируемой поверхности полупроводника вследствие разделения пар полем приэлектродного барьера и изменения заряда на поверхностных ловушках происходит изменение потенциала поверхности. Потенциал освещённой поверхности называется плавающим, а его изменение - поверхностной эдс. Последняя может быть измерена конденсаторным методом с использованием либо вибрирующего электрода (метод Кельвина), либо прерывистого освещения. Измеряемое при этом изменение контактной разности потенциалов между поверхностью полупроводника и металлическим электродом включает кроме поверхностной эдс (основной вклад) также и эдс Дембера, возникающую в приповерхностной области.
3) Объёмная фотоэдс - вызывается разделением пар носителей на неоднородностях в объёме образца, создаваемых изменением концентрации легирующей примеси, или изменением химического состава сложных полупроводников. Причиной разделения пар является встроенное электрическое поле. Оно создаётся в результате изменения положения уровня Ферми Для появления объёмной эдс не требуется наличия в образце областей с разным типом проводимости. Обычно объёмная эдс наблюдается при освещении внутренней части образца, содержащей встроенное поле, при затемнённых контактах. Объёмная эдс может возникать также в результате отсутствия компенсации эдс Дембера на противоположных границах освещаемой области при различии свойств полупроводника у этих границ. 4) Фотопьезоэлектрический эффект - возникновение фототока или фотоэдс при деформации образца. Одним из его механизмов является возникновение объёмной эдс при неоднородной деформации, приводящей к изменению параметров полупроводника, прежде всего 5) Высоковольтная эдс - возникает при неоднородном освещении и характеризуется тем, что электрическое поле направлено вдоль поверхности образца, её величина пропорциональна длине освещённой области. В отличие от вентильной и объёмной эдс, величины к-рых не превышают ширины запрещённой зоны, высоковольтная эдс может превышать 103В. Одним из её механизмов является поперечный эффект Дембера в условиях, когда диффузионный ток имеет компоненту вдоль поверхности; другой механизм - образование структуры р-п-р - п-р, выходящей на поверхность. Высоковольтная эдс возникает вследствие суммирования эдс на каждой паре несимметричных р-п- и п-p-переходов. Фотогальванический эффект второго типа обусловлены асимметрией элементарных процессов фотовозбуждения носителей, их рассеяния и рекомбинации. Эти фотогальванический эффект не требуют образования пар свободных носителей и наблюдаются как при межзонных переходах, так и при возбуждении носителей с примесей и при поглощении света свободными носителями. К этим фотогальваническим эффектам относятся: а) эффект увлечения электронов фотонами, связанный с асимметрией в распределении фотоэлектронов по импульсу, вызываемому передачей им импульса фотонов. В двумерных структурах при оптических переходах между минизонами фототек увлечения вызван преимуществ. переходами электронов с определенным направлением импульса и может существенно превышать соответствующий ток в объёмных кристаллах. б) линейный фотогальванический эффект - не связан с передачей импульса фотона электронам и поэтому не меняется при изменении направления распространения света на обратное. Он обусловлен асимметрией распределения фотоэлектронов, которая создаётся двумя механизмами: баллистическим, связанным с появлением направленного импульса при квантовых переходах, и сдвиговым, обусловленным смещением центра тяжести волнового пакета электрона при переходах. При этом вклад в ток дают как процессы поглощения света, так и рассеяния и рекомбинации. В общем случае направление и величина тока j зависят от положения плоскости поляризации света. где В кристаллах с полярной осью, как правило, основного компонента тока направлена вдоль этой оси и не зависит от поляризации излучения. Рис. 2. Зависимость фотоэдс, обусловленной линейным фотогальваническим эффектом в p-GaAs, от угла j между плоскостью поляризации света и осью кристалла [001 ]; T=300 К, l= 10,6 мкм. Рисунок 5. Зависимость продольной фотоэдс в Те, возникающей при распространении света вдоль оси с3, от степени циркулярной поляризации При нестационарном освещении пьезоэлектриков вклад в ток даёт не только линейный фотогальванический эффект, но и эффект оптического выпрямления, т. е. квадратичная по Е поляризация кристалла в) Циркулярный фотогальванический эффект - возникает в гиротропных кристаллах при освещении циркулярно (эллиптически) поляризованным светом и меняет знак при изменении знака круговой поляризации Yав - тензор отличен от 0 в гиротропных кристаллах. В кубических кристаллах классов Т и О , а также в одноосных кристаллах при распространении света вдоль главных осей 3-, 4- и 6-го порядков. Направление тока совпадает с направлением распространения света, циркулярный фотогальванический эффект создаётся баллистическим механизмом. Причина этого эффекта - корреляция между спином электрона и его импульсом в гиротропных кристаллах. При возбуждении электронов циркулярно поляризованным светом, приводящим к оптической ориентации спинов, они одновременно приобретают и направленный импульс. Наблюдался и обратный эффект - оптическая активность, индуцированная током; она вызывается ориентацией спинов в гиротропных кристаллах при пропускании тока. Линейный и циркулярный фотогальванический эффект, как и эффект увлечения, используются для создания безынерционных приёмников интенсивного излучения. В диэлектриках линейный фотогальванический эффект является основным механизмом оптической памяти, т. к. он приводит к изменению показателя преломления, сохраняющемуся после выключения света и зависящему от его интенсивности. Это изменение вызывается замороженными электрическим полями, возникающими в результате перезарядки ловушек фототоками. г) Поверхностный фотогальванический эффект - обусловлен рассеянием возбуждаемых светом носителей заряда на поверхности. При межзонном поглощении возникает в условиях, когда значительная часть возбуждаемых носителей может достичь её без рассеяния. В этом случае в результате отражения электронов от поверхности возникает баллистический ток, нормальный к поверхности. В тех случаях, когда при возбуждении носителей происходит их выстраивание по импульсу, т. е. их функция распределения является анизотропной, может появиться и ток, текущий вдоль поверхности. Для этого необходимо, чтобы средние значения компоненты импульса вдоль поверхности для электронов, двигающихся к поверхности и от неё, не равнялись нулю и отличались знаком. Такое распределение возникает, напр., при возбуждении носителей из вырожденной валентной зоны кубических кристаллов в зону проводимости. При неупругом рассеянии на поверхности электроны, достигающие её, теряют направленный импульс вдоль поверхности, тогда как электроны, двигающиеся от поверхности, сохраняют его, что и приводит к возникновению тока вдоль поверхности. При поглощении или отражении света свободными носителями в полупроводниках (и металлах) поверхностный фотогальванический эффект возникает при наклонном падении света, а также и при нормальном падении, если нормаль к поверхности не совпадает с одной из главных осей кристалла вследствие передачи импульса фотонов электронам.
Заключение.
Важная особенность фотодиодов – высокое быстродействие. Они могут работать на частотах до нескольких миллионов герц. Фотодиоды обычно изготовляют из германия или кремния. Фотодиод является потенциально широкополосным приемником. Этим и обуславливается его повсеместное применение. В будущем крайне важно повышение рабочей температуры фотодиодов. Оценивая сегодняшнюю оптоэлектронику в целом, можно сказать, что она скорее «криогенная», чем «комнатная». Будущее оптоэлектроники находится в прямой зависимости от прогресса фотодиодных структур. Оптическая электроника бурно развивается, разрабатываются новые типы фотоприемников, и наверняка уже скоро появятся фотодиоды на основе новых материалов с большей чувствительностью, повышенным быстродействием и с улучшенными характеристиками в целом.
Список литературы 1) Тауц Я., Фото- и термоэлектрические явления в полупроводниках, пер. с чеш., М., 1962 2) ; Рывкин С. М., Фотоэлектрические явления в полупроводниках, М., 1963; 3) Пикус Г. Е., Основы теории полупроводниковых приборов, М., 1965; 4) Белиничер В. И., Стурман Б. И., Фотогальванический эффект в средах без центра симметрии, "УФН", 1980, т. 130, с. 415; 5) Ивченко Е. Л., Пику с Г. Е., Фотогальванические эффекты в полупроводниках, в сб.: Проблемы современной физики. Сб. ст. к 100-летию со дня рождения А. Ф. Иоффе, Л., 1980; 6) Альперович В. Л. [и др.], Поверхностный фотогальванический эффект в твердых телах, "ЖЭТФ", 1981, т. 80, с. 2298; 7) Нормантас Э., Пикус Г. Е., Эффект увлечения при отражении света от поверхности, "ФТТ", 1985, т. 27, с. 3017; 8) Стурман Б. И., Фридкин В. М., Фотогальванический эффект в средах без центра симметрии и родственные явления, М., 1992; 9) Ivchenko Е., Pikus G., Superlattices and other heterostructures. Symmetry and optical phenomena, B.- [a. o.], 1995.
|